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硅清洗技術(shù)經(jīng)歷了持續(xù)的發(fā)展改進(jìn)，包括早期用氣相等效物替代在濕化學(xué)品中進(jìn)行的部分清洗操作。難以置信的是，現(xiàn)代先進(jìn)的Si清洗仍然依賴于大體上同一組化學(xué)溶液，不過(guò)它們的制備和送至晶圓的方法與初提出的已大不相同。此外，傳統(tǒng)上用濕清洗化學(xué)品做的表面選擇清洗/修整功能現(xiàn)在是在氣相中做的。蘇州晶淼半導(dǎo)體設(shè)備有限公司，我們的每臺(tái)設(shè)備除標(biāo)準(zhǔn)化制作外，還可根據(jù)客戶的工藝需求和工作環(huán)境的具體要求，對(duì)設(shè)備進(jìn)行人性化、個(gè)性化設(shè)計(jì)，極大限度的將客戶的想法轉(zhuǎn)化為實(shí)際應(yīng)用。能完全滿足規(guī)模化生產(chǎn)和研發(fā)需求。隨著微粒和金屬污染的數(shù)量級(jí)逐漸減小，以及對(duì)這方面的污染控制非常有效，現(xiàn)在更多注意的是有機(jī)污染和表面狀態(tài)相關(guān)問(wèn)題。用簡(jiǎn)單的燈清洗法可以把有機(jī)污染從Si表面除去。此外，應(yīng)特別注意溶解在水內(nèi)和氣相的臭氧在控制有機(jī)污染中的作用。
