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酸加氧化劑清洗:酸加氧化劑清洗液配方為:HCI∶H2O2∶H2O=1∶5∶5~1∶10∶10,可溶解堿金屬離子,并生成碳酸鹽和鋁、鐵及鎂之氫氧化物,另外鹽酸中氯離子與殘留金屬離子發生絡合反應形成易溶于水溶液的絡合物,也可去除金屬污染物。雙氧水一方面可以去除有機物污染,另外配合攪拌和超聲過程中形成的大量氣泡對表面大顆粒污染物產生較大沖擊力,使污染物脫離表面。清洗操作的注意事項：在清洗機內作業時，打開機器的通風設備，關閉外窗門，以防止有機溶劑氣體擴散到清洗間，污染樣品，損害操作人員健康；保持清洗機內的清潔衛生，不擺放除超聲設備、燒杯、花籃以外的其他設備。在批次清洗工藝還是在單晶圓清洗工藝中，傳統的浸沒清洗仍起主導作用。在單晶圓清洗工藝時，這一趨勢由于太陽電池清洗技術的需求而強化。該技術中，由于被加工襯底的剪切數目(shearnumber)，可選用批次加工方法。可以使選擇氣相清洗化學過程與批次加工兼容。但同時，單晶圓清洗方法（如旋轉清洗）正推進到高端應用領域。
