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有機溶劑清洗:從溶解的相似相溶規律出發,一般采用汽油-丙酮-乙醇清洗,或采用乙醇-乙醚混液和異丙醇代替乙醇。采用乙醇-乙醚是因為這種混合液的揮發性強,采用異丙醇是因為異丙醇的脫脂能力強。為降低這些有機溶劑本身在MCP表面的殘留,在每次使用有機溶劑后都要用超水進行漂洗。在不破壞MCP表面特征的情況下可結合攪拌、鼓泡、溢流、噴淋、超聲、蒸汽脫脂等方法一起使用。半導體清洗機設備生產線用于PICOAT前清洗設備，描述了LCD生產線（以CSTN為主）上使用的PICOAT清洗設備的主要清洗藝流程及設備的主要組成部分，包括清洗、漂洗、氣刀、風干、IR、UV清洗干燥、CP降溫、冷卻干燥等。半導體清洗機濕式清洗制程中，主要應用項目包含晶圓清洗與濕式蝕刻兩項。至于臟污的來源，不外乎設備本身材料產生、現場作業員或制程工程師人體自身與動作的影響、化學材料或制程藥劑殘留或不度的發生，以及制程反應產生物的結果，尤其是制程反應產生物一項，更成為制程污染主要來源。
