半導體硅片光刻清洗機設備工作臺
1. 本設備是光刻清洗臺,適用于4-6英寸半導體硅片清洗工藝。
2.整機由機臺、操作臺面、清洗槽體、溫度控制系統,排風、機臺照明、電氣控制系統等組成。機身包板為德國PP板。瓷白色,整潔美觀。
3.共3個槽體 水浴加熱槽2個,排水槽1個
4. 本半導體硅片光刻清洗機設備的左、右前方各配置PP材料的水qiang、氣qiang各2把
5.PLC控制器
6.聲光提示、報警功能
7. 設備照明:20W封閉日光燈
8. DIW氮氣(N2) 管路 、潔凈空氣管路、自來水管、 藥液排放管、排氣管路、 排水管布局簡潔合理。