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對許多金屬和金屬合金一個有趣的爭論就是，他們是通過物理氣相沉積(PVD)還是通過化學氣相沉積(CVD)能得到.好的沉積效果。盡管CVD比PVD有更好的臺階覆蓋特性，但目前諸如銅的子晶層和鉭氮擴散層薄膜都是通過PVD來沉積的，因為現有的大量裝置都是基于PVD系統的，工程技術人員對PVD方法也有較高的熟練程度。一些人建議，既然臺階覆蓋特性越來越重要(尤其是在通孔邊墻覆蓋)，CVD方法將成為必不可少的技術。相似的爭論也存在于產生低k值介質材料方面：是使用CVD方法好還是采用旋涂工藝好？在化學氣相沉積中，決定晶圓間薄膜均勻性的重要參數之一是晶圓間的氣體是流動的。上圖所示是Novellus概念下ThreeALTUS系統中，一個晶圓及其基座上的SiH4集中度和鎢沉積率的典型路徑圖。管式爐結構爐管系統：1、爐管：是爐子的重要部件，有輻射管和對流管。爐管表面積就是加熱爐的傳熱表面積。其金屬耗量占爐子總鋼耗量的百分之四十到五十，投資占百分之六十以上。爐管直徑有102mm、127mm、152mm等幾種，管壁厚度一般為6~12mm，輻射管因其外壁受火焰直接輻射，管內受油品較高溫度、壓力和腐蝕聯合作用，選材時應考慮材料的耐熱性、耐高溫強度及耐腐蝕性。2、爐管連接件即爐管彎頭，常見有箱式彎頭和“U”型彎頭。3、爐管支承件，常見的支承件有導向架和拉鉤，以對立管導向或保持穩定。水平管則常用托管架，或掛管架支承。對排列密集的爐管則用管板支承。對多路并聯管為均勻分布各支路流體則用拔制集合管。管式氣氛電阻爐主要運用于冶金，玻璃，熱處理，鋰電正負極材料，新能源，磨具等行業測定材料在一定氣氛條件下的設備。優點：工藝成熟;爐型結構簡單；操作容易，便于控制，能連續生產；乙烯、丙烯收率較高，產物濃度高；動力消耗少，熱效率高；裂解氣和煙道氣的大部分可以設法回收；原料的適用范圍隨著裂解技術的進步而日漸擴大；可以多爐組合而大型生產。
