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CVD真空氣氛管式爐應用領域：
CVD真空氣氛管式爐廣泛適用于高、中、低溫CVD工藝，例如：碳納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結構的可控生長等等，也可適用于金屬材料的擴散焊接及真空或保護氣氛下熱處理
CVD真空氣氛管式爐的技術指標：
| 設備型號 | CVD(D)-06/60/3 | CVD(Z)-06/30/1 | CVD(G)-07/50/2 | CVD(G)-09/50/1 |
| 限高溫度 | 1050℃ | 1350℃ | 1650℃ | 1650℃ |
| 使用溫度 | RT-1000℃ | 850~1300℃ | 1000~1600℃ | 1000~1600℃ |
| 控制精度 | ±1.5℃ | ±1.5℃ | ±1.5℃ | ±1.5℃ |
| 溫區個數 | 3 | 1 | 2 | 1 |
| 加熱區長度 | 600mm | 300mm | 500mm | 500mm |
| 爐管尺寸 | 60x1400mm | 60x1000mm | 70x1450mm | 90x1450mm |
| 爐管材料 | 石英管 | 剛玉管 | 剛玉管 | 剛玉管 |
| 發熱元件 | 電阻絲 | 電阻絲/硅碳棒 | 硅鉬棒、電阻絲 | 硅鉬棒 |
| 裝機功率 | 4.5kw | 3kw/8kw | 10kw | 12kw |
