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應用領域：
CVD系列真空氣氛管式爐廣泛適用于高、中、低溫CVD工藝，例如：碳納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結構的可控生長等等；也可適用于金屬材料的擴展焊接以及真空或保護氣氛下熱處理.
產品特點：
高溫CVD系列管式爐專門設計用于高溫材料沉積之用。 硅鉬棒加熱、剛玉爐管爐膛, 可預抽真空,便于通入參加反應的氣體,進口單回路智能溫度控制儀控制、溫區設計隔板結構。具有溫度均勻、控制穩定、溫區間溫度擾動小、升溫速度快、節能、使用溫度高、壽命長等特點，是理想的科研設備。
技術指標：
設備型號
CVD（D）-06/60/3
CVD（Z）-06/30/1
CVD（G）-07/50/2
CVD（G）-09/50/1
最高溫度
1050℃
1300℃
