產品分類 更多>>
深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產銷售磁控濺射用的靶材，磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，2013年的蒸發鍍膜方式，其很多方面的優勢相當明顯。作為一項已經發展的較為成熟的技術，磁控濺射已經被應用于許多領域。 深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產銷售磁控濺射用的靶材，濺射是制備薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源產生的離子，在真空中經過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、記錄介質、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。 深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產銷售的靶材應用于存儲領域。在儲存技術方面，高密度、大容量硬盤的發展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，CoF ~Cu多層復合膜是如今應用廣泛的巨磁阻薄膜結構。磁光盤需要的 T b F e C o合金靶材還在進一步發展，用它制造的磁光 盤具有存儲容量大，壽命長，可反復無接觸擦寫的特 點。如今開發出來的磁光盤，具有 T b F e C o / T a和 T b F e C o / Al 的 層復合膜結構， T bF eCo/AI結構的Kerr 旋轉角達到5 8，而T b F e Co f F a 則可以接近0.8。經過研究發現， 低磁導率的靶材高交流局部放電電壓 l 抗電強度。
