產品分類 更多>>
深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產銷售磁控濺射用的靶材，磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，2013年的蒸發鍍膜方式，其很多方面的優勢相當明顯。作為一項已經發展的較為成熟的技術，磁控濺射已經被應用于許多領域。 深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產銷售磁控濺射用的靶材，濺射是制備薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源產生的離子，在真空中經過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、記錄介質、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。 深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產銷售磁控濺射用的靶材，在PVD中，根據膜層沉積方法又可以再細分為：蒸發整鍍、濺射鍍和離子鍍。蒸發整鍍主要運用于光學和塑膠領域，是真空鍍較早應用的方法。濺射鍍興起主要是在20世紀70年代后期，以磁控鍍膜技術為代表，在大面積鍍幕墻玻璃上面獲得較大的應用，其次是電子線路坂和各種磁介質記錄膜層。離子鍍則主要應用于刀具和阻熱膜等，特別是航太發動機外涂層，必須通過真空電鍍才能獲得理想的耐溫阻熱效果。
