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主要用途
高真空鍍膜設(shè)備可采用電阻加熱式蒸發(fā)源、電子束加熱式蒸發(fā)源，感應(yīng)加熱式蒸發(fā)源?？梢哉舭l(fā)金屬，金屬氧化物和非金屬氧化物，適用于電子工業(yè)、光學(xué)工業(yè)的導(dǎo)電膜、光學(xué)膜、濾光膜、裝飾膜等，如電子器件、塑料制品、制鏡等。
主要組成
設(shè)備由真空鍍膜室、蒸發(fā)源、卡具、真空機(jī)組、蒸發(fā)電源、控制系統(tǒng)與輔助裝置等組成。
主要特點(diǎn)
★配有石英晶體或光學(xué)膜厚控制儀，可以實(shí)現(xiàn)膜厚鍍膜自動(dòng)控制，實(shí)現(xiàn)高精度的鍍膜效果。
★配RF離子轟擊裝置達(dá)到凈化基體表面的作用，使膜與基體表面附著力更好，提高膜層的強(qiáng)度。
★可同時(shí)蒸鍍兩種以上不同的蒸鍍材料，可制成復(fù)合膜。
★操作簡(jiǎn)便、適應(yīng)生產(chǎn)、科研的理想設(shè)備。
★具有過(guò)流、過(guò)壓保護(hù)及斷水、欠壓保護(hù)及電氣互鎖的功能。
