名片曝光使用說明

步驟1:創建名片

微信掃描名片二維碼,進入虎易名片小程序,使用微信授權登錄并創建您的名片。

步驟2:投放名片

創建名片成功后,將投放名片至該產品“同類優質商家”欄目下,即開啟名片曝光服務,服務費用為:1虎幣/天。(虎幣充值比率:1虎幣=1.00人民幣)

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英國Thermco公司擴散爐、LPCVD、氧化爐、退火爐、合金化爐  產品概述 英國Thermco Systems公司成立于1962年,是世界上著名的臥式擴散爐、氧化爐、退火爐、合金化爐及LPCVD爐的制造商,在全球各處的半導體制造廠里都有大量的安裝應用,迄今為止安裝記錄已超過20000管。 根據基片尺寸以及產量要求的不同,HTR系列可分為6200,5100/5200,4500/4900,2400/2600等;可處理4¨~10¨的基片,每管處理能力分別可達25片、50片或100片;根據配置不同的工藝氣源及溫度控制范圍,各型號的產品均可用于LPCVD、擴散及氧化等熱處理反應工藝。  產品應用 標準半導體工藝 ?LPCVD氮化硅(標準型) ?LPCVD氮化硅(低應力型) ?LPCVD斜坡溫度多晶硅 ?LPCVD一致晶粒多晶硅 ?LPCVD氧化層TEOS(正硅酸乙脂) ?LPCVD VLTO(低溫氧化) ?LPCVD BPSG(硼磷硅玻璃) ? 高溫氧化 ? 干法氧化 ? 濕法氧化 ? 摻雜擴散 (3-4路液相摻雜管路 ( POCL3 or BBR3)) ? 5-6路TCA或Hcl氣路 ? 混合氣體退火 ? 高溫熱回火 ? 低溫退火和合金化 ? 高溫驅入(Drive in) 標準LED工藝 ?高真空退火(環境可控) ?低溫合金化/退火 標準PV(太陽能)工藝 ?濕氧/干氧 ?PN結驅入 ?Forming氣體退火 ?氫氣退火 ?低溫熱處理 ?POCl3,BBr3 PN結和槽 ?反射氮化膜(ARC Nitride coating) 標準MEMS(微機電)工藝 ?低應力CVD氮化物 ?氧氮化物SIPOS ?厚氧 ?TEOS,良好的臺階覆蓋能力 ?多晶硅和摻雜多晶硅

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“英國Thermco公司擴散爐氧化爐”信息由發布人自行提供,其真實性、合法性由發布人負責。交易匯款需謹慎,請注意調查核實。
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