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真空磁控濺射鍍膜機廣泛應用于家電電器、鐘表、燈具、工藝美術(shù)品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。所謂“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體表面原子從母體中逸出的現(xiàn)象。早在1842年Grove在實驗室中就發(fā)現(xiàn)了這種現(xiàn)象。磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁場為曲線形，均勻電場和對數(shù)電場則分別用于平面靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下，加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞。若電子具有足夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar 并產(chǎn)生電子，電子飛向基片，Ar 在電場作用下，加速飛向陰極（濺射靶）并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。
本公司的磁控濺射鍍膜設備有以下幾大特點：
1）膜厚可控性和重復性好。能夠的鍍制預定厚度的薄膜，并且，濺射鍍膜可以在較大的表面上獲得厚度均勻的膜層；
2）薄膜與基片的附著力強。部分高能量的濺射原子產(chǎn)生不同程度的注入現(xiàn)象，在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴散層；
3）制備特殊材料的薄膜，可以使用不同的材料同時濺射制備混合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿金膜；4）膜層度高，濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。
