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去離子水設備應用范圍
1、電子材料加工、單晶硅半導體、半導體材料、液晶顯示器、計算機硬盤、印刷電路板、集成電路；
2、LCD、EL、PDP、TFT、玻殼和顯像管；
3、超材料和超化學劑導纖維和光盤；
4、汽車、家電表面電泳漆清洗用水及其它高科技精密產品；
去離子水設備技術參數
機器型號：N 1-100T-DI
制 水 量：1-100 T/H
主要管徑：DN 32
工作壓力：≤1.0MPa
產水電阻率：18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm
進水水源：城市自來水
進水水溫：5－35℃
機器電源：380V/50HZ
進水TDS ：≤300ppm
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去離子水設備使用說明書
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