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該系列設備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧電子蒸發(fā)三種技術融合一體，結合線性離化脈沖偏壓可使沉積顆料細化，膜層各項性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復合膜等。經公司技術人員多年研發(fā)，通過特有的陰極電弧離子和非平衡磁控系統(tǒng)，并開發(fā)出整套PROPOWER系列計算機自動控制系統(tǒng)，使鍍膜膜層附著力致密度、從復度一致性好等特點，解決了人工手動操作復雜性、膜層顏色不一致等問題。廣泛適用于手表、手機殼、五金、潔具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。鍍制Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各類金屬石膜（DLC）。
1、磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論，把陰極表面磁場擴展到接近工件表面，提高了濺射原子離化率。既保留磁控濺射的細膩又增強了表面光澤度。
2、電弧等離子體蒸發(fā)源性能，在優(yōu)化陰極及磁場結構鍍膜時可在30A電流下工作，鍍膜膜層和基底界面產生原子擴散，又具有離子束輔助沉積的特點。
