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磁控蒸發雙用鍍膜設備同時配備的電阻加熱蒸發裝置和先進的圓柱磁控濺射裝置，加熱蒸發鍍膜技術和磁控濺射鍍膜技術的有效結合，使設備的適用范圍更廣，可得到多種不同性能的膜層。適用在塑料、陶瓷、金屬等材質上鍍制仿金膜、鋁膜、裝飾鍍膜、多層功能膜（如：EMI電磁屏蔽膜）等等。更換不同的靶材，如：鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等。可得到不同的膜系，如超硬、耐磨、防腐的合金膜等。設備采用獨特的雙門結構，使工件及鍍料的裝卸與鍍膜同時進行，大大提高了工作效率。
