更詳細資料：131-2297-6482 婁經理
光學系統
曝光時間調解器：0.1至999.9秒(可調節精度0.1s)；
365-400nm光強傳感及電源供應控制電路及反饋閉環；
聲控功率警報裝置可防止系統功率超過設定指標；
有安全保護裝置的溫度及其氣流傳感器；
全景準直透鏡光線偏差半角:<1.84度；
波長濾片檢查及安裝裝置；
抗衍射反射功能高效反光鏡；
二向色的防熱透鏡裝置；
防汞燈泄漏裝置；
配備蠅眼棱鏡裝置；
配備近紫外光源，
--220 nm 輸出強度 – 大約 8-10 mW/ cm2
--254 nm 輸出強度 – 大約 12-14 mW/ cm2
--365 nm 輸出強度 – 大約 18-20 mW/ cm2
--400 nm 輸出強度 – 大約 30-35 mW/ cm2
主要配置:
6”，8”光源系統
可支持2”，3”，4”，6”，8”（圓/方片）及碎片光刻（支持特殊工藝卡盤設計）
手動系統，半自動系統,
支持電源350-2000 Watt
支持深紫外近紫外波長（可選項）<1.84度；
CCD或顯微鏡對準系統
背后對準測試1:
3um光刻膠套刻至5umAl線內
背后對準測試2:
硅片套刻金屬10um對準標記
主要性能指標：:
光強均勻性Beam Uniformity:
--<±1% over 2” 區域
--<±2% over 4” 區域
--<±2.5% over 6” 區域
接觸式樣曝光特征尺寸CD（深紫外DUV）：0.35 um
接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV）： 0.5 um
支持接近式曝光，特征尺寸CD:
--0.8um 硬接觸
--1um 20 um 間距時
--2um 50um 間距時
正面對準精度±0.5um
支持正膠、負膠及Su8膠等的厚膠光刻，特征尺寸：100um-300um
