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需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材， 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并目沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜，對于濺射類鍍膜可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過程，最終形成薄膜的，在工作中的冷卻工作是需要沸克板式冷卻器來完成的，沸克板式冷卻器是能過水的冷熱交替來完成鍍膜機的降溫，從而達到良好的工作效果
沸克板式換熱器體積小易干安置，清洗拆卸方便，板片之間換熱效率高，正常的運作達到良好的預料效果。
真空鍍膜機降溫達到一定的冷卻溫度能更好的運作，配合默契的板式換熱器換熱冷卻幫住其一定范圍選用不同的密封膠墊。更好的為其服務，不錯的選擇。
