用途
鎢靶和鎢鈦合金靶、鎢硅復(fù)合靶材通常被施以磁控濺射的方式制作各種復(fù)雜和高性能的薄膜材料。由于鎢或超鎢(5 N或6 N)具有對(duì)電子遷移的高電阻、高溫穩(wěn)定性以及能形成穩(wěn)定的硅化物,在電子工業(yè)中常以薄膜形式用作柵極、連接、過(guò)渡和障礙金屬。超鎢及其硅化物還用于超大規(guī)模集成電路作為電阻層、擴(kuò)散阻擋層等以及在金屬氧化物半導(dǎo)體型晶體管中作為門材料及連接材料等。鎢鈦合金濺射靶材常用于制作薄膜系太陽(yáng)能電池的過(guò)渡金屬層。
規(guī)格描述