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一、紫外線UV光清洗燈的特點
1、可在空氣中進行并且在清洗后不必進行干燥。
2、可去除物體表面的碳和污染物。
3、無溶劑揮發及廢棄溶劑的處理問題。
4、保證產品的高可靠性和高成品率。
5、產品表面清洗處理的均勻度一致，氧化的表面不宜用光清洗方法，只適對表面污垢清洗、不適對污垢量較， 無機類污清洗。
6、由于光清洗是通過氧化反應去除物體表面的碳和化合物，所以容易發生。
二、紫外線UV光清洗的技術應用范圍
1、主要在液晶顯示器件、半導體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料等生產過程中采用光清洗方法比較合適。
2.主要材料：ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和 帶有氧化膜的金屬等進行仔細清洗處理。
3.可以去除污垢：人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等。
4.此UV光源在LCD工藝中又具有UV改質（紫外光表面質變）的特點，目前在液晶顯示器STN的生產過程中，主要是用在膜處理技術上，對于膜與膜之間的密接是非常不錯的，如膜與感光膠膜層，涂層與PI涂層等等。
5.另在研究部門又可用來UV改性塑料材料產品，用于技術研究，產品經此UV光照射發生化學反應，使產品表面性質改變。STN-LCD、彩色濾光片及OLED的制作過程中，有些制程設備相當雷同，差別在于制造工藝要求的不同。隨著線路的精細化及產品的彩色比，LCD產業對制造工藝的要求也不斷地提升，而有"工欲善其事，必先利其器"之需求，因此只有設備能力不斷地精進，才能提高生產的質量與效率。
