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多晶硅超水器_超水機_超水系統。硅片是現代半導體行業不可或缺的基礎材料，而在硅片的生產過程中會有許多的污染物質干擾產品的質量，所以半導體器件的生產硅片需要進行嚴格的清洗，通過清洗去除掉表面的污染雜質，包括有機物和無機物等，否則微量元素的污染會導致半導體器件失效。
多晶硅是由許多硅原子及許多小的晶粒組合而成的硅晶體。由于各個晶粒的排列方向彼此不同，其中有大量的缺陷。多晶硅一般呈深銀灰色，不透明，具有金屬光澤，性脆，常溫下不活潑。
多晶硅是用金屬硅(工業硅)經化學反應、提,再還原得到的度材料(也叫還原硅)。目前世界上多晶硅生產的方法主要有改良西門子法(SiHCl3)、新硅烷法(SiH4)、SiH2Cl2熱分解法、SiCl4法等多晶硅生產工藝。
對于消毒系統和清洗系統而言有四種類型：低pH值型、高pH值型、高溫消毒型以及低濃度氧化消毒清洗型。單獨的消毒清洗程序只針對淡水、濃水以及給水管線而言，消毒清洗的循環過程可以獨立完成，獨立的循環程序也可同時進行，從而減少總的使用時間。由于極水循環的低清洗流速，大多數情況下清洗過程必須同時與濃水循環清洗和淡水循環清洗同時進行。清洗水箱及水泵是必備的(CIP系統)。總共需要五條清洗流水線：兩個(淡水和濃水)以及三個出口(淡水出口，給水出口和濃水排放)。
工藝流程：
原水箱→原水提升泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級高壓泵→一級反滲透→級間水箱→二級高壓泵→中間水箱→EDI提升泵→微孔過濾器→EDI系統→EDI水箱→拋光混床→用水點
設備特點：
1.
