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光氧催化設(shè)備采用高能高臭氧UV紫外線光束、氧化反應(yīng)催化劑、高能離子發(fā)生裝置的組合工藝來降解有機(jī)廢氣，改變惡臭、刺激型氣體如：氨、胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類、苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，通過高能紫外線光束照射、催化劑的氧化反應(yīng)、正氧離子的氧化反應(yīng)，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

一、降解有機(jī)化學(xué)物：能去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達(dá)99.9%以上，脫臭效果大大超過1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554-93）．
二、無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力，使氣體通過本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
三、適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同有機(jī)化學(xué)氣體物質(zhì)的凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定。
四、運(yùn)行成本低：本設(shè)備無任何機(jī)械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，（每處理1000立方米/小時(shí)，僅耗電約0.1度電能），設(shè)備風(fēng)阻極低＜30pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動力能耗。
五、無需預(yù)處理：廢氣無需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30o－95o之間，濕度在40%－98%之間均可正常工作。
六、設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件。

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