化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)（CMP Chemical Mechanical Polishing ）綜合了化學(xué)和機(jī)械拋光的優(yōu)勢(shì)：?jiǎn)蔚幕瘜W(xué)拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，完美性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單的機(jī)械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深。化學(xué)機(jī)械拋光可以獲得較為完美的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高兩個(gè)數(shù)量級(jí)，是目前能夠?qū)崿F(xiàn)全局平面化的有效方法。納米鏡面研磨液又稱濕拋液，適用于鋁合金、銅、不銹鋼、貴金屬等的鏡面拋光。廣泛應(yīng)用于金屬ＬＯＧＯ標(biāo)志的鏡面自動(dòng)拋光處理，配合平面研磨機(jī)使用。
產(chǎn)品應(yīng)用對(duì)照表：
產(chǎn)品 | Sample-G11 砂光液 | Sample-G12 中磨液 | Sample-G13 精磨液 | Sample-G15 洗凈劑 | Sample-G16 洗凈劑 |
適用范圍 | 鋁材/不銹鋼鏡面拋光 | 鋁材/不銹鋼鏡面拋光 | 鋁材/不銹鋼鏡面拋光 | 鋁材/不銹鋼鏡面拋光 | 鋁材/不銹鋼鏡面拋光 |
外 觀 | 乳白色液體 | 乳白色液體 | 乳白色液體 | 透明液體 | 透明液體 |
使用濃度 | 8－10% | 8－10% | 8－10% | 8－10% | 8－10% |
使用溫度 | 常溫 | 常溫 | 常溫 | 65℃－85℃ | 65℃－85℃ |
配套設(shè)備 | 平面研磨機(jī) | 平面研磨機(jī) | 平面研磨機(jī) | 超聲波 | 超聲波 |
包裝方式 | 5 kg | 5 kg | 25 kg | 25 kg | 25 kg |
產(chǎn)品 | Sample-G20 研磨劑 | Sample-G21 光亮劑 |
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適用范圍 | 鋁材/不銹鋼/合金去振動(dòng)去毛刺 | 鋁材/不銹鋼/合金研磨拋光 |
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外 觀 | 透明液體 | 透明液體 |
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使用濃度 | 視工件大小而定 | 視工件大小而定 |
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使用溫度 | 常溫 | 常溫 |
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配套設(shè)備 | 振動(dòng)研磨機(jī) | 振動(dòng)研磨機(jī) |
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包裝方式 | 25 kg | 25 kg |
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