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加工定制
是
種類
化合物半導體
特性
度保障，晶粒度小，致密度高
用途
實驗或研究級別用靶材，電子，光電，裝飾，功能薄膜等
規格
不規則塊狀、1-3mm顆粒、300目粉末
度
99.99％
一氧化硅.
度：4N
化學符號：SiO
分 子 量：44.08
規 格：300目粉末 5-10mm塊狀 1-3mm顆粒50.8*5,76.2*5,101.6*5等其他規格可根據客戶需求定做
熔 點：1700℃
密 度：2.1g/cm3
折 射 率(波長/nm)：1.8-1.9(550)
1.7(6000)
透明波段/nm：500-8000
相對介電常數:6
損耗因數：0.015-0.02
頻 率/kHz：1-103
坩 堝：Ta
蒸發源方式：Ta、Mo
沉積技術：蒸鍍
溶 解 于：王水
在10-4Torr蒸發溫度：850℃
薄膜的機械和化學性質：適用電阻蒸發，應用低速率。低壓下快速蒸發。
應 用：保護膜，冷光膜，裝飾膜
注：規格可根據客戶要求定做
北京環球金鑫國際科技有限公司從事光學鍍膜材料、磁控濺射靶材、材料、粉末的研發生產和銷售。產品廣泛應用于，航空航天，新能源，LED，電子與半導體，平面顯示行業，建筑與汽車玻璃行業，薄膜太陽能行業，磁存儲行業，表面工程（裝飾
