半導體側面泵浦固體激光打標機簡介:
半導體泵浦激光器采用半導體發光二極管作為激光晶體的能量來源(激勵源),用波長808nm半導體發光二極管泵浦Nd:YAG介質,使介質產生大量的反轉粒子,在Q開關的作用下形成波長為1064nm的巨脈沖激光輸出。因為半導體激光器的電光轉換率較燈泵浦激光器有了較大提高,因而避免了由于發熱高所造成的輔助設備體積龐大、激光束品質欠佳等問題。是第二代激光器的代表。
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半導體泵浦激光器采用半導體發光二極管作為激光晶體的能量來源(激勵源),用波長808nm半導體發光二極管泵浦Nd:YAG介質,使介質產生大量的反轉粒子,在Q開關的作用下形成波長為1064nm的巨脈沖激光輸出。因為半導體激光器的電光轉換率較燈泵浦激光器有了較大提高,因而避免了由于發熱高所造成的輔助設備體積龐大、激光束品質欠佳等問題。是第二代激光器的代表。
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