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中頻磁控濺射鍍膜設備：
該系列設備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧電子蒸發三種技術融合一體，結合線性離化脈沖偏壓可使沉積顆料細化，膜層各項性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復合膜等。經公司技術人員多年研發，通過特有的陰極電弧離子和非平衡磁控系統，并開發出整套PROPOWER系列計算機自動控制系統，使鍍膜膜層附著力致密度、從復度一致性好等特點，解決了人工手動操作復雜性、膜層顏色不一致等問題。廣泛適用于手表、手機殼、五金、潔具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。鍍制Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各類金屬石膜（DLC）。
