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中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備：
該系列設(shè)備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧電子蒸發(fā)三種技術(shù)融合一體，結(jié)合線性離化脈沖偏壓可使沉積顆料細(xì)化，膜層各項(xiàng)性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復(fù)合膜等。經(jīng)公司技術(shù)人員多年研發(fā)，通過(guò)特有的陰極電弧離子和非平衡磁控系統(tǒng)，并開(kāi)發(fā)出整套PROPOWER系列計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制系統(tǒng)，使鍍膜膜層附著力致密度、從復(fù)度一致性好等特點(diǎn)，解決了人工手動(dòng)操作復(fù)雜性、膜層顏色不一致等問(wèn)題。廣泛適用于手表、手機(jī)殼、五金、潔具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。鍍制Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各類金屬石膜（DLC）。
