產品分類 更多>>
產
品
特
點 與普通的CVD系統相比，因為有等離子源的介入,系統的沉積溫度相對較低。
配備有滑軌式管式爐可以輕松實現快速降溫，實現快速退火。
操控界面可配備液晶操作系統，圖文顯示，直觀易懂，對于設備的使用操作簡單易學
該系統較高工作溫度接近1150℃，能滿足大多數熱處理場合。
該設備可具體用于：碳、 ZnO 納米管或納米線的制備也可以用于制備單層石墨烯以及各種CVD實驗 。
等
離
子
發
生
器
輸出功率: 5 ～500W ± 1% .
射頻頻率: 13.56 MHz ±0.005% .
反射功率: 較大約200W
阻抗匹配: 自動
真
空
泵
機
組 雙極旋片泵, 極限真空0.1Pa
KFD25 快接，不銹鋼波紋管，手動擋板閥與法蘭，真空泵相連.
管內真空可達1Pa
可選：本公司的防腐型數字式真空顯示計，其測量范圍為3.8x10-5 至 1125 Torr. 不需因測量氣體種類不同而需要系數轉換。（需要另外計算費用）
質量流量計 三通道的質量流量計(精度0.02% ) ：數字顯示，自動控制.
MFC 1范圍: 0~100 sccm
MFC 2和3: 0~500 sccm
一個混氣罐，底部裝有泄廢液口.
進氣接口: 1/4NPS.
出氣接口: 1/4NPS.
水冷系統 水冷法蘭要求：水流量 >= 10L/M ，配有水冷機組。
管式爐 爐管直徑：80mm
爐管長度：1400mm
爐膛長度：440mm
控溫精度：±1℃
工作溫度：≦1200℃
