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曝光裝置是一種成像裝置，即在靜電復印過程中，將原稿圖像通過光源及光今不統 所形成的光像，終在光導層表面形成0電潛像. 曝光裝置性能的好壞和曝光光源的特性，對于復印質量有直接影響.因此，應滿足 下列要求: ·光源和鏡頭的光譜響應，應與光導體相匹配， ·光源有足夠的光強，能在較短的時間內使敏化的光導體迅速消電， 二應選用電功率小和發光效率高的光源以減少其功率消耗， ·光路系統調節性能要好，通光效率應高，即光的損耗少廠 ·光路系統與光導體的同步誤差不得大于。. 5 %; ·在設計允許的條件下，曝光裝置的結構應使原稿得到較大的照度，并對原稿 ，整個照射面積上的照度均勻， ·曝光裝置應有良好的散熱措施，特別是用熱光源時，其稿臺坡19表面的溫度，應 在連續復印時，不超過700C, 顯影的主要目的是使靜電潛像得以顯示.而顯影裝置是籽電復印過程中嚴重影響I 印質量的重要因素.顯影裝置結構的優劣，性能的好壞，維護、使用得當等1 J .}i_ j.C 影響復印品的質。因此，確保顯影裝R的性能良好，參數正確，是獲得復印品的 于有效. 靜電復印過程中，對顯影裝置的基本要求有如下幾個方而: (1)對光導體能連續供給一定數量的顯影劑; (2)將顯影劑均勻撒布在光導體上; (3 )顯影裝置的摩擦帶電特 性，應與所用的色粉和載體相適 應，即色粉和載體的摩擦帶電特性 彌，則顯影裝置的摩擦帶電性能可 弱:反之應強; “)色粉的摩擦帶電量， 應與所用光電導材料相匹配， (5)色粉的消耗和補充達 到平衡.
