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真空鍍膜機是在中間設置真空室 ，在真空室的左右兩側設置左右大門，而在其中配裝蒸發裝置和磁控裝置，可在該雙門上預留該兩裝置的接口，以備需要時換裝。真空鍍膜機一般都是由真空系統、蒸發系統、薄膜卷繞系統、冷卻系統、控制系統等主要部分組成。當薄膜運行速度達到一定數值后，打開擋板使氣態鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、冷卻即形成一層連續而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發速度、基材薄膜的移動速度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在250～500。
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