產品分類 更多>>
MKZ-T3 型立式微波真空高溫爐
適用范圍
適用于真空、氛圍條件下各類固體材料的高溫合成、燒結、熔融及熱處理等
功能描述
1、采用不銹鋼真空箱體設計，既能承擔負壓，又可減少反應氣氛的腐蝕
2、允許氣氛環境：空氣、氮氣、氬氣、氧氣等多種氣體
3、適合不含水物料的高溫加熱，真空度可達-0.099Mpa（青島海拔高度測得數據）
4、紅外測試儀，可以不接觸測試物料溫度，避免微波場干擾
5、高溫加熱區容積：8L，約200×200×200mm（寬×深×高）
6、根據物料特性，較高溫度可達到1500℃，長時間連續工作溫度100～1400℃
7、采用PLC自動控制，溫度和功率均智能可控，液晶對話界面
8、內置高溫換熱器，適合高溫氣體排除
9、懸臂門，多層防護，杜絕微波泄漏和氣體密封
10、門體多重連鎖結構，開門斷電，保護操作人員，微波泄漏防護符合國標
規格參數
1、220V/50Hz（或者380V/50Hz可選）電源供電
2、多源微波饋入，較大輸出微波功率3200W
3、外尺寸約900×700×1860mm（寬×深×高）
