1、 本說明書適用于ZD型鍍膜機(jī)之主要技術(shù)指標(biāo)、結(jié)構(gòu)、操作規(guī)程、技術(shù)安全守規(guī)及電氣系統(tǒng)方面的說明，作為設(shè)計(jì)與制造單位產(chǎn)品出廠及使用單位的主要技術(shù)文件之一。
2、 原理：在一個(gè)壓強(qiáng)極低的真空容器里，使固體表面淀積上一層金屬或介質(zhì)的薄膜之工藝過程，稱為真空鍍膜。
3、 用途：真空鍍膜技術(shù)發(fā)展極為迅速，在電子工業(yè)，化學(xué)工業(yè)及國(guó)防工業(yè)中占有及其重要的地位，隨著科學(xué)的不斷發(fā)展，各門技術(shù)對(duì)鍍膜機(jī)的要求越來越高了。ZD-16型真空鍍膜機(jī)主要用于電子工業(yè)、裝飾工業(yè)中，在鍍膜室內(nèi)設(shè)有無極調(diào)速的轉(zhuǎn)動(dòng)卡具，蒸發(fā)電極等機(jī)構(gòu)。
4、 主要技術(shù)指標(biāo)
1、 規(guī)格：Φ1600×2000mm（鍍膜室直徑×高度）
2、 鍍膜室的極限壓力：≤6.67×10—3 Pa
3、 鍍膜室的恢復(fù)真空度時(shí)間：從大氣壓抽至5×10—2 Pa≤20min
4、 蒸發(fā)電源：功率20KVA
5、 蒸發(fā)電極數(shù)量：8~10對(duì)
6、 滾筒轉(zhuǎn)數(shù)：0~40轉(zhuǎn)/分
7、 輸入電源：三相380伏 交流，50赫茲
8、 較高消耗功率：45KVA
9、 鍍膜機(jī)外形尺寸：4500×2500×2500
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