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設備別名：真空氣氛爐，真空箱式爐
真空氣氛爐是真空技術與熱處理技術相結合的新型熱處理技術，真空熱處理所處的真空環境指的是低于一個大氣壓的氣氛環境，包括低真空、中真空、高真空，真空熱處理實際也屬于氣氛控制熱處理。真空熱處理是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態下進行的，真空熱處理可以實現幾乎所有的常規熱處理所能涉及的熱處理工藝，但熱處理質量大大提高。與常規熱處理相比，真空熱處理的同時，可實現無氧化、無脫碳、無滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達到表面光亮凈化的。
一、真空箱式爐應用領域 該真空箱式爐以硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和40段程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁纖維材料，真空箱式爐廣泛應用于金屬材料在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理；也可以用于特殊材料的熱處理。
二、真空箱式爐主要特點 爐門口安裝有水冷系統，氣體經過流量計后由后膛進入，并有多處洗爐膛進氣口，出氣口處有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳等氣體，能抽真空，真空度可達5pa,該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等，是科研院所、工礦企業做氣氛保護燒結、氣氛還原用。
