產品分類 更多>>
Fluid Purification
GE阻垢劑MDC150
Argo MDC150阻垢劑與傳統阻垢劑的技術特點比較
晶體修改型阻垢劑 Argo MDC 150阻垢劑
阻垢劑類型 晶體修改型 阻止晶體生成型
阻垢原料 含磷小分子或含磷多元共聚物(有機膦)與其他高分子聚合物的復合配方 樹枝狀聚合物Dendrimer的高純度單一合成體
生產工藝 買來用于鍋爐或冷卻循環水阻垢的原料藥劑按一定比例復合配制,難以保證配方
純度和溶解度 擁有世界科技前沿完整生產線及專利技術自行生產合成Dendrimer
阻垢原理 促使金屬微晶(Ca2++SO42-=CaSO4)生成后再通過對晶體生長進行修改,阻止微晶長大為
沉淀 直接阻止微晶(CaSO4)生成
阻垢產物 大量微晶生成并懸浮于濃水中,當其覆蓋
于膜表面時，則導致反滲透膜污堵 無微晶生成
阻垢劑對膜的污染影響 含磷分子設計導致其本身也可與膜表面
生成氫鍵鏈接,從而導致膜的污堵 樹枝狀聚合物Dendrimer與膜不會發生任何反應或附著
阻垢方式對膜的污染影響 由于其本質為較原始的螯和掩蔽,故會有大量微晶生成,當加藥量過大時,微晶會在
膜表面形成凍膠狀排列,導致膜的污染 Dendrimer的阻垢方式為完全防止微晶產生,所以不會在膜表面產生任何污染
