產品分類 更多>>
深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產銷售磁控濺射用的靶材，在PVD中，根據膜層沉積方法又可以再細分為：蒸發整鍍、濺射鍍和離子鍍。蒸發整鍍主要運用于光學和塑膠領域，是真空鍍較早應用的方法。濺射鍍興起主要是在20世紀70年代后期，以磁控鍍膜技術為代表，在大面積鍍幕墻玻璃上面獲得較大的應用，其次是電子線路坂和各種磁介質記錄膜層。離子鍍則主要應用于刀具和阻熱膜等，特別是航太發動機外涂層，必須通過真空電鍍才能獲得理想的耐溫阻熱效果。 深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產銷售磁控濺射用的靶材。在濺射工藝中，等離子體不斷生成，同時離子受到電場的作用力，不斷的向靶材表面撞擊。 深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產銷售磁控濺射用的靶材。用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。
