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磁控濺射鉑靶材 ，反應(yīng)磁控濺射專用鉑靶材 ，離子鍍?yōu)R射專用鉑靶材，離子束濺射專用鉑靶材，圓片圓形鉑靶材，鉑靶材，金屬鉑靶材，鉑靶材定做 ，鉑靶材99.999% ，鉑靶材，科研用鉑靶材，實(shí)驗(yàn)用鉑靶材，鉑靶材 ，公差鉑靶材。
物理性質(zhì) 顏色 白
密度 21.35g/cm3
熔點(diǎn) 1773℃
技術(shù)指標(biāo) 度 4N-6N
相對(duì)致密度 >99%
公差 ±0.1mm
晶粒度 均勻
材質(zhì) CNM-鉑
品牌 CNM
產(chǎn)地 北京中金研新材料科技有限公司
產(chǎn)品規(guī)格 根據(jù)客戶需要進(jìn)行定制，來樣加工，來圖加工
少起訂量 1pcs
供貨能力 持續(xù)穩(wěn)定
交貨期 單片材料8個(gè)工日發(fā)貨，批量材料15天-20天內(nèi)發(fā)貨（工作日）
制作工藝 真空磁懸浮熔煉，熱壓，熱等靜壓，特殊熔煉，澆鑄成錠，熱機(jī)械處理，加工中心
適用儀器 各類型號(hào)磁控濺射設(shè)備。
產(chǎn)品用途 實(shí)驗(yàn)或研究級(jí)別用金靶材 ，電子，光電，軍用，裝飾，功能薄膜等。
認(rèn) 證 ISO9001，ISO14001，SGS
產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn) 高品質(zhì)，度，價(jià)格優(yōu)惠
高真空熔煉，濕法提制備，電子束熔煉提，化學(xué)法提，度高，雜質(zhì)少
反復(fù)鍛造，軋機(jī)軋制，氣氛保護(hù)，氧化少，成型可塑
相對(duì)致密度高，晶粒均勻等軸，一致性高
薄膜均勻，耐腐蝕性高，薄膜牢固度好。
